Все
  • Все
  • Управление продуктом
  • Новости и информация
  • Вводный контент
  • Предприятийские точки продаж
  • Часто задаваемые вопросы
  • Корпоративное видео
  • Портфолио компании
Продукты

Продукты

Ручная станция очистки SM-MCP-200
+
  • Ручная станция очистки SM-MCP-200

Ручная станция очистки SM-MCP-200

Модель продукта:

SM-MCP-200


Описание продукта

Специализированное оборудование для ручной мокрой очистки и обработки пластин. Основная функция этого оборудования заключается в том, чтобы позволить операторам использовать органические растворители (такие как ацетон, этанол, NMP и др.) или неорганические растворители (SPM, SC₁, SC₂) для удаления загрязнений с поверхности пластины — таких как фоторезист, частицы, металлические примеси и остаточные органические вещества — посредством специфических ручных процедур, включающих замачивание, промывку и протирание.
Свяжитесь с нами

Подробные сведения о продукте


Особенности устройства:
1. Оснащён 3 кварцевыми резервуарами и 2 резервуарами QDR из ПВДФ

2. Стандартный моющийся держатель для чип-карт размером 3 дюйма / 6 дюймов / 8 дюймов — 1 шт.

3. Дополнительный блок противопожарной защиты: обнаружение по ИК-излучению (температура вспышки) / термочувствительное обнаружение, сертификация 3C

4. Передняя рабочая дверь оборудования оснащена интегрированной конструкцией типа «нажать и сдвинуть» (с взрывостойким прозрачным стеклянным окном).

5. Две выхлопные системы высокой производительности, регулируемые вручную клапаны, сигнализатор низкого давления воздуха и манометр дифференциального давления.

6. Предохранительная блокировка нагрева, защита от утечки

 

Параметры устройства

Тип спецификации Органический стол для очистки / Неорганический стол для очистки Слот QDR Количество: 2; фактический дизайн зависит от объёма; материал — ПВДФ.
Размеры машины 1800 мм × 1200 мм × 1950 мм Название лекарства ДИВ
Процессный бак Количество: 3, Объём: 16 л, Из кварца Температура процесса РТ
Название лекарства Органическая жидкость Мониторинг уровня жидкости Многоступенчатый датчик уровня N₂
Температура процесса RT~80℃ ±3℃ Значение водостойкости Внешний измеритель водостойкости
Метод нагрева Нагревание в водяной бане Верхний спрей Левый-правый распылитель
Обнаружение температуры PT100×2 Пузырение N₂ Распределение пузырьков на дне резервуара равномерное, а размер пузырьков можно регулировать с помощью ручного регулятора давления.
Мониторинг уровня жидкости Многоступенчатый датчик уровня N₂ Трубчатая структура Переполнение + Быстрое опускание
Крышка слота Ручная крышка для бака из ПВДФ Время быстрой сортировки Весь бак можно опорожнить за 5 секунд.
Материал клапанов и трубопроводов ПФА Водоснабжение Заводское водоснабжение завершило верхнее и нижнее пополнение.
Ультразвук 40 кГц, 600 Вт (мощность регулируемая) Излучение Утилизация на установках с гравитационным сливом — отдельные трубопроводы для жидких сточных вод и повторно используемой воды.
Режим подачи кислоты Ручная подача кислоты /
Излучение Гравитационный слив для коммунальных объектов завода — отходящие жидкости и сточные воды поступают по отдельным трубопроводам. /